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曝光装置

 ******  Flat Panel  曝光装置 *******

 

 

【超大型纵型曝光装置】

<特征>

能使大型Panel的Mask翘曲控制在最小限度内,是Mask纵型的曝光装置。

多面取、大型Panel以X step方式曝光。在高连接精度下进行曝光。

进行Mask和Panel的精密温度控制,并能控Total Pitch.

尺寸 

:150inch对应X step曝光

:50inch 12面X step

:42inch 8面 一次曝光

方式 :Mask纵型

Lamp House :采用16KW,25KW最大35KW的Lamp、高照度、±5%以内的照射分布,在光的平行度上也进行了最优设计。

 

 

【大型Touch Panel用曝光装置】

 <特征>

 对应4.5G920730mm)~6G15001850mmTouch Panel薄板。ITOOC1MetalOC2的工序提供最优模式。

用独特光学系和照明,能够对在图像上不明显的ITO MarkMetal覆盖的Mark进行高精度的对位。

Panel的搬送是纵型、非接触搬送方式,对应薄板。

标准配备Mask Changer5-10,对应洁净的图像成形。

适用尺寸

92073015001850mm

方式 :Mask 纵型

 

 

 

Lamp House :采用16KW, 25KWLamp、高照度、±3%以内照射分布、在光的平行度上也进行了最优设计。

 

 

 

中型Touch Panel/OLED曝光装置】

 

<特征>

 

2G~3.5G的水平型曝光装置机种齐备。

采用高速shuttle搬送或机器人搬送,能以高速处理能力来提高产能。

 

 

另外,对难以看见的ITO Mark、被Metal覆盖的Mark,也能以独特的光学系、照明和图像处理技

术,进行高精度的对位。

 

通过对Mask和Work的温度控制,使Total Pitch控制在±3-5um。

适用尺寸 

370*470、400*500、550*650、620*750mm

 

 

方式 :Mask 水平型

Lamp House:KW, 8KW的Lamp、高照度、

±3%以内的照射分布、在光的平行度上也

进行了最优设计。

 
 

FilmRoll  to  Roll曝光装置

<特征>

 

3D、Touch Panel、FPC、OLED等的Film Device上,能提供单面或两面曝光。

 

 

 

 

Film,从长条到Roll来对应Film控制EPC制御,并抑制曲折能进行光学对位实现高精度的图像成形曝光方式是密着式、近接触式

 
 
 

******  WaferMEMSWLCSP用曝光装置 *******

【试作开发用手动曝光装置】

            

<特征>


为研究开发,提供高精度又使用方便的手动对位。

对应2-6inch(也能对应角基板)手动对位、Z轴控制是自动、提高Gap精度,并且使用方便。

可以单面或两面对位。
从table top到附带防振台的产品,机种丰富、选择众多。
两面对位时可以选择两侧光学系或IR光学系。

【对应试作量产的半自動曝光装置】

                 

<特征>
适合试作量产、高精度图像成形、提供高精度对位。

对应2、6、8inch或角基板。自动对位、平行度调整和Gap控制也是自动、只是Work的搬入、搬出是由人工手动来进行。

可对应单面或两面对位。
对位精度=±1μm以下。

防振功能是标准规格;两面对位时可选择两侧光学系或IR光学系。
曝光方式是真空密着曝光、硬接触曝光、近接触式曝光。

 
 

 

 
 

φ300mm12inchWafer全自动两面曝光装置

 

<特征>

 

MLCSP、C-MOSno里面配线用两面对位曝光装置

装备有Environment (Foup)、也能对应GEM300、OHTspin coaterdeveloper也可integratresist coat到曝光显影都是全自动。

可以进行图像成形(Option

reticle自动交换Option

Work 尺寸 :φ200、300mm

曝光方式 真空密着曝光硬接触曝光近接触式曝光。

 

 

Lamp House :3,5KW5KW

照度       :20mW/cm2(3.5KW)

照度分布   :±5%以内

节拍      :80-100/小时

 

 

 

 

demo装置

 

 

 

 

 

小型Wafer自动曝光装置

 

 

<特征>

 

 

是最适合LED/水晶device自动曝光装置有着重视生产性的高刚性设计基底和支柱采用石质平板采用双臂机器人高处理能力随机访问控制。 也装备有参考边对位。

Work 尺寸 :φ2.4inch也有对应6inch的装置

曝光方式 :真空密着曝光硬接触曝光近接触式曝光

Lamp House :500W

照度      :17mW/cm2(3.5KW)

照度分布   :±3%以内

对位精度   :±1μm以下

节拍      :130-150/小时

 
 
 

如有疑问•请垂询:装置事业推进部 仓林先生… kurahayashi@seiwaopt.co.jp

 

 

 

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